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9月30日 03:01
行业
信源:
X:SemiAnalysis (@SemiAnalysis_)
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EVG 谈 NIL 用于光子芯片量产
💡 灵机 AI 深度洞见与核心提炼
在 Semicon Taiwan 上,EVG 介绍了纳米压印光刻(NIL)在光子集成电路大规模制造以及激光器制造中的应用。NIL 特别适合在光子芯片内定义周期性结构,例如光栅耦合器,或用于微发射器阵列的微透镜阵列,并有可能用于 DFB 激光器光栅。(1/3)🧵
信源媒体:
X:SemiAnalysis (@SemiAnalysis_)
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