灵
灵机 FeedHub
🌙
← 返回 AI 资讯大厅
📰 今日早报 ↗
← 返回 AI 资讯大厅
10月7日 21:32
技巧
信源:
IT之家(RSS)
· 👁️ 28869 次研读
余承东:EUV 设备是制造先进芯片的关键,国内正在研发
💡 灵机 AI 深度洞见与核心提炼
华为余承东在 9 月 29 日国际媒体圆桌会议上表示,极紫外光刻(EUV)设备是制造先进芯片的关键,中国目前正在研发这些设备,现阶段国内仍依靠深紫外光刻(DUV)。
信源媒体:
IT之家(RSS)
访问出处网页 ↗
阅读原文出处 ↗
📋 复制分享链接
← 返回大厅